Canon şirketinin geçen sene tanıttığı yeni nanoimprinting litografi cihazını yakında müşterilerine sunmak için gün sayıyor. Yeni teknik mevcutta olan litografi tekniklerine göre önemli avantajlara sahip olacağı gündemini koruyor.

Geçen yıl Canon şirketi, ASML’nin aşırı ultraviyole (EUV) ve gelişmiş derin ultraviyole (DUV) litografi cihazlarının rekabet edebilecek ilk nanobaskı (nanoimprint) litografi (NIL) aracının tanıtımını gerçekleştirdi. Financial Times’da yer alan haberie göre bu hafta şirket, müşterilerin ilk NIL makinesini bu yıl veya önümüzdeki yıl almaya hazırlandığını ancak bunun deneme çalışmaları için kullanılacağını duyurdu.

Canon şirketinin geçen sene tanıttığı yeni nanoimprinting litografi cihazını yakında müşterilerine sunmak için gün sayıyor.

Canon’un EUV Cihazlarından %90 Daha Az Güç Harcadığı Dikkat Çekiyor!

Nanobaskı litografi tekniği ile klasik litografi teknikleriyle oyma baskı yapmak yerine levha üzerine damgalayarak baskı yapabiliyor. Şirketin iddiasına göre yeni teknik AMSL’nin EUV makinelerine göre %90 daha az güç harcadığı gün yüzüne çıkıyor.

Canon şirketinin Optik Ürünler Operasyonları başkanı Hiroaki Takeishi, Financial Times’a yaptığı bir açıklamada Canon’un bu makineleri 2024 ve 2025’te sevk etmeye başlayacağını dedi. Bu benzersiz teknoloji, basit, düşük maliyetli, son teknoloji çiplerin oluşturulmasına olanak sağlaması en dikkat çeken özelliklerinden biri olduğunu görmekteyiz.

Canon şirketinin geçen sene tanıttığı yeni nanoimprinting litografi cihazını yakında müşterilerine sunmak için gün sayıyor.

Nanobaskı Litografi Nasıldır?

Canon’un 15 yılı aşkın bir süredir geliştirdiği nanoimprint litografi teknolojisinin çip tasarımlarını doğrudan silikon plakaların üzerine damgalama yaparak çip yapımına yeni bir yaklaşım sunduğunu deneyimlenecek. Aynı zamanda bu yenilikçi yöntem, lazerlere dayanan geleneksel DUV ve EUV litografi teknolojilerinin tam tersi bir yaklaşım sunmakta ve önemli ölçüde daha ucuz ve enerji açısından verimli olmayı vaat edeceğini söylüyor. Ayrıca şirket, NIL’nin 5nm üretim sürecine eşdeğer çipler oluşturmak için kullanılabileceğini ve ileride 2nm seviyesine kadar inebileceğinin altını çiziyor.

Canon, nanobaskı litografi makineleriyle DUV ve EUV araçlarını değiştirmek yerine bu araçlarla beraber çalışabilmesini hedeflediğini söylüyor. NIL cihazlarının, mantık çipleri için olmasa bile 3D NAND çiplerini yapmak için kullanılabileceği ifade ediyor.

Canon Cihazın başarısı şüphe Uyandırıyor

Son olarak, Canon’un son teknoloji fabrikasyon araçları pazarında yer alışı, ASML’nin tartışılmaz litografi lideri olduğu mevcut durumu değiştirme imkanına elbette sahip olabilir. Ancak NIL, DUV ve EUV ile uyumlu olmadığından mevcut tasarımlara uygulanması zorluklar içermekte. Bu arada, sadece nanobaskı litografisine dayalı bir üretim süreci geliştirmenin mümkün olup olmadığı da belirsizliğini koruyor.

Endüstri analistlerinin şüpheyle yaklaştığı Canon’un nanobaskı litografisinin başarılı olup olmayacağını zaman ortaya koyacak. Konuyla ilgili görüşünü belirten araştırma şirketi Radio Free Mobile’ın başkanı Richard Windsor, Nanobaskı teknolojisi üstün bir teknoloji olsaydı, sanırım şimdiye kadar çalışır durumda ve hacimli olarak piyasada olurdu sözleriyle kuşkusunu dile getiren açıklamalarda bulundu.

Cevap Yaz

E-posta adresiniz yayınlanmayacak. Gerekli alanlar * ile işaretlenmişlerdir